一种用于砷化镓晶片的抛光液，由磨料、表面活性剂、pH值调节剂、螯合剂和去离子水组成，各种成分所占的重量百分比为：磨料 10～50％；表面活性剂0.01～0.6％；pH值调节剂1～6％；螯合剂 0.01～1％；去离子水为余量；抛光液pH值范围为11～12，粒径为 15nm～100nm。所述抛光液的制备方法是：首先将制备抛光液的各种组分分别进行过滤净化处理，然后在千级净化室的环境内，将各种组分在真空负压的动力下，通过质量流量计输入容器罐中并充分搅拌，混合均匀即可。本发明的优点是：抛光液是碱性，不腐蚀污染设备；砷化镓晶片抛光速率快，平整性好；工艺简单，成本低。
