一种用于砷化镓晶片的精抛液，由磨料、表面活性剂、pH值调节剂、螯合剂和去离子水组成，其特征在于：采用纳米级磨料，如水溶硅溶胶或金属氧化物Al2O3、CeO2或TiO2的水溶胶，其粒径为10～ 60nm；所占重量百分比为10～40％；抛光液pH值范围为3～6， pH调节剂为盐酸、硝酸、柠檬酸和乙酰水杨酸中的一种或其组合。本发明的优点是：该精抛液采用纳米级磨料，对晶片无损伤；由于精抛液呈酸性，因此容易清洗金属离子沾污；且抛光速率快，平整性好。
发布日期：2008-01-28 浏览次数：553
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