一种用于二氧化硅介质的抛光液，其特征在于它是由磨料、表面活性剂、pH值调节剂、氧化剂和去离子水混合组成，其中磨料占总重量的10～50％，表面活性剂占总重量的0.01～0.6％，pH值调节剂占总重量的1～6％，氧化剂占总重量的0.01～15％，去离子水占总重量的28.4～88.98％，抛光液pH值范围为11～12，粒径为15nm～ 100nm。其制备方法为取料、过滤净化、搅拌、混合均匀即可。本发明的优越性在于：抛光液是碱性，不腐蚀污染设备，容易清洗；二氧化硅介质抛光速率快，平整性好；采用非离子型表面活性剂，能对磨料和反应产物从衬底表面产生有效的吸脱作用；工艺简单，成本低。
