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用于将厚膜成像的光致抗蚀剂组合物.pdf

放大字体  缩小字体 发布日期：2011-07-08  浏览次数：436
核心提示：用于将厚膜成像的光致抗蚀剂组合物.pdf
本发明涉及一种特别可用于将厚膜成像的光敏性光致抗蚀剂组合物，其含有成膜性碱溶性树脂，光活性化合物，和基于光致抗蚀剂总重量计的含量范围在约2000ppm～约14,000ppm的表面活性剂。优选光致抗蚀剂膜厚度大于20微米。本发明进一步提供一种本发明光敏性组合物的涂覆和成像方法。

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关键词： 用于将厚膜成像的光致抗蚀剂组合物
 
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