【发 明 者】Penny;Glenn S.; (Lakewood, CO); Dismuke; Keith Ingram; (Katy, TX);
【申 请 人】CESIChemical, Inc.
【申 请 号】US14/445006
【申 请 日】2014-01-28
【公 开 号】US20150053404
【公 开 日】2015-02-26
【摘 要】
发明背景:在生产石油和天然气等期望的烃类时,会在地下环境中遇到许多其它天然物质。从井孔和生产设备上清除不需要的沉积物通常称为“修复”。于此相反,术语“刺激”通常指处理地质岩层以提高烃类的回收率,常见的刺激技术包括井压裂和酸化作业。当前,许多公司通过各种技术来提供井修复和刺激等重要服务。石油和天然气被发现存在于多孔和可渗透性的地下储层中,孔隙度和地层的渗透率决定了该储层储存烃的能力以及从该地层中提取烃类的设备类型。在石油和天然气井完井期间使用特定的乳液添加剂可使近井筒的渗透性更高,同时会使烃类的产量长期增加。储层中排水量和油气中支撑剂的增加以及随之的烃产量的增加都归因为毛细管压力的降低。然而,当前使用的溶剂-烃类表面活性剂系统降低毛细管压力的能力有限。因此,仍需要研制一种井处理组合物能够有效降低毛细管压力、增加润湿性,同时能保持传统乳化处理剂期望的性能。
发明简述:本发明涉及一种井处理添加剂,其包含硅氧烷表面活性剂、溶剂和水相。所述溶剂优选萜烯烃。所述硅氧烷表面活性剂为硅氧烷聚氧化乙烯共聚物,具有结构式(Ⅰ)所示的结构,优选三硅氧烷聚氧乙烯共聚物。文中还公布了使用所述井处理添加剂来形成和提高用于处理石油和天然气井的萜烯溶剂基添加剂性能的方法。新型井处理添加剂的使用方法包括将所述添加剂用于多种井处理工艺中,包括但不局限于:酸化作业、水力压裂作用、井修复作业以及去水作业等。
(结构式Ⅰ)
R1为包含-(CH2)n-(OCH2CH2)x-(OCH(CH3)CH2)y-OR3的有机基团;其中n为3~11的整数,x为3~30的整数,y为1~30的整数;R3选自包含-H、-Me和-OC(O)CH3的基团。M表示MeSiO1/2,D表示-Me2SiO-,T表示-MeSiO3/2-,Q表示-SiO-,Mˊ表示Me2(R)SiO1/2-,D′表示-Me(R)SiO-,T′表示-RSiO3/2-;R表示H,a为0~200的整数。




