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汉高—一种温和的化妆清洁组合物—美国专利

放大字体  缩小字体 发布日期:2015-02-28  浏览次数:2942
核心提示:【发 明 者】Fahl Madlen;Hentrich Dirk;Schroeder Thomas;Meyer Jens【申 请 人】汉高(Henkel AGCo. KGaA)

【发 明 者】Fahl Madlen;Hentrich Dirk;Schroeder Thomas;Meyer Jens

【申 请 人】汉高(Henkel AG & Co. KGaA)

【申 请 号】14256499

【申 请 日】2014-04-18

【公 开 号】20140228268

【公 开 日】2014-08-14

【摘    要】一种温和的化妆清洁剂在合适的载体中包括a)1~6wt%的至少一种如式(1)所示的的阴离子表面活性剂,其中R1为直链或支链的、饱和或不饱和的具有6~30个碳原子的烷基,R2~R5中至少有一个基团为C1-C4烷基,其余基团彼此独立地为氢原子或C1-C4烷基,M+为铵、烷醇铵或金属阳离子;b)2~10wt%的至少一种两性和/或两性离子表面活性剂;c)5~10wt%的至少一种非离子表面活性剂和/或至少一种非离子乳化剂,选自以下基团中的至少一种:烷基(低聚)苷、氧化胺和/或甘油的单和/或双(C6-C24)羧酸酯,其中所示含量相对于总重量计算。

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关键词: 汉高
 
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