【发 明 者】Andreas Klipp,Vijay Immanuel Raman, Shyam Sundar Venkataraman, Raimund Mellies, Mingjie ZHONG
【申 请 人】德国巴斯夫公司（BasfCorporation ）
【申 请 号】EP20120760859
【申 请 日】2012-02-28
【公 开 号】EP2688688 A1
【公 开 日】2014-01-29
【摘 要】本专利提供一种水溶性、无氮的清洗组合物以及其制备方法和用途。该组合物的PH值为5~8，包含（A）一种两亲性非离子型、水溶性或水分散性表面活性剂，和（B）金属螯合剂，选自至少含有3个羧酸基团的多元羧酸。该组合物可用于清除半导体基片上的残留物和污染物。
