一种制造用于磁记录介质的基底的方法包括利用包含碱水溶液和表面活性剂的蚀刻剂对硅基底进行化学蚀刻处理。以在表面粗糙度负载曲线中接触比率达到50％处的高度为基准，在高度为1.0nm或更大的区域中所述用于磁记录介质的基底在其表面上具有其接触比率值(BH 1.0nm)为5％或更大且20％或更小的凹凸。利用其上设置有磁性膜、保护膜和润滑剂层的用于磁记录介质的基底，可以提供磁记录介质。以在表面粗糙度负载曲线中接触比率达到50％处的高度为基准，在高度为1.0nm或更大的区域中所述磁记录介质具有其接触比率值(BH 1.0nm)为5％或更大且20％或更小的凹凸。利用所述磁记录介质和适于在所述磁记录介质中记录和再现数据的磁头，可以提供磁记录和再现装置。
