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清洗半导体装置的磷酸组合物水溶液.pdf

放大字体  缩小字体 发布日期：2011-03-15  浏览次数：427
核心提示：清洗半导体装置的磷酸组合物水溶液.pdf
本发明涉及多种含有磷酸的稀水溶液，和多种使用此稀水溶液从半导体基板清洗等离子体蚀刻残渣的方法。根据本发明的溶液优选含有碱性化合物、一种或多种其它酸化合物和/或含氟化合物，并且可以任选含有例如有机溶剂、螯合试剂、胺和/或表面活性剂的附加组分。

清洗半导体装置的磷酸组合物水溶液.pdf
 

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关键词： 清洗半导体
 
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